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Nikkei X-TECH_2022.6.17

2022 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits
‘무어의 법칙은 2040년까지 지속된다’
ASML 사장 겸 CTO가 단언

반도체의 최첨단 기술을 소개하는 국제학회 '2022 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits'가 2022년 6월 13일(미국 시간), 미국 하와이주 호놀룰루시에서 개막했다. 실제로 개최된 것은 2019년 이후 처음이다. 6월 14일에 개최된 기조 강연에서는 네덜란드 ASML의 사장 겸 CTO(최고기술책임자)인 브링크 씨가 등단해, 무어의 법칙은 2040년까지 지속될 것이라고 예측했다.

ASML은 첨단 프로세스 제조에 필수인 EUV(극단 자외선) 노광 장치를 취급하는 유일한 기업으로 알려져 있다. 브링크 사장은 ‘Holistic Patterning to Advance Semiconductor Manufacturing for the 2020s and Beyond (2020년대 이후 최첨단 반도체 제조 종합적 패터닝)’이라는 제목으로 강연했다.

미세화의 한계가 조심스럽게 거론되는 가운데, “반도체 이노베이션의 가치 창조는 당분간 그 속도를 늦추지 않을 것이며, 예측이 가능한 장래에서 무어의 법칙은 결코 멈추지 않는다”라고 단언했다.

강연에서는 2nm 프로세스 이하의 미세화를 가능하게 하는 EUV(극자외선) 노광장치의 개발 로드맵도 공개되었다. 미세화에 크게 관련된 NA(개구수)가 0.33인 이 장치에서는 1.1nm 프로세스 이하에 대응하는 ‘NXE: 3800E’를 2023년에, 0.8nm 프로세스 이하에 대응하는 ‘NXE: 4000F’를 2025년 이후에 생산을 개시할 예정이다.

NA를 0.55로 높인 이 장치에서는 2024년경에 1.1nm 프로세스 이하에 대응하는 'EXE: 5000'을, 2025년 이후에 0.8nm 프로세스 이하에 대응하는 'EXE: 5200B'의 생산을 개시할 예정이라고 한다.

또한 ASML은 벨기에의 연구조직 imec와 협업하여 설립하는 차세대 고개구수(High-NA) EUV 노광장치 연구소인 ‘High-NA Lab’을 2023년부터 일부 고객이 조기에 접근 가능한 시설로서 개방한다. EXE: 5000을 갖추고 있으며 프라이빗 랩에서 High-NA EUV 노광장치 테스트와 최첨단 프로세스 개발이 가능하다고 한다.

브링크 사장은 마지막 결론으로, “향후 엄격한 리소그래피의 요건을 충족하는 것이 필요하다. 리소그래피 및 광학·전자빔 기술, 검사, 계산 기술 등의 다양한 파장에 의한 종합적인 어프로치가 빠져서는 안 된다”라고 말했다.

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