VLSIプロセス技術 : 高歩留りのための問題点とその解決

VLSI 공정 기술 : 고수율을 위한 문제점과 해결점

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    NTTにおける０．８～０．５μｍプロセス開発過程で発生したトラブルとその解決法を中心に、先端のプロセス技術とＬＳＩの故障解析技術を解説。初版を全面改訂し、後工程を追加詳述した。プロセス開発中のトラブルと解決策を具体的に解説した好書。

目次

     第１章　ＬＳＩプロセス技術の概要

     第２章　フォトリソグラフィ工程

     第３章　基板工程

     第４章　配線工程

     第５章　ダスト・汚染

     第６章　故障解析技術

     第７章　後工程

     第８章　製造プロセス技術の評価と検討

     第９章　これからに向けて

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