전기전자/정보통신

內容

    情報ストレージのなかでも光ストレージは、 従来技術の原理的限界を超えた高密度化、 大容量化の実現を図るべく研究開発が著しく進展しており、 関連分野の研究開発者に向けた書籍が求められている。 本書は、 大容量光ストレージが必要とされるに至った背景、 各要素技術の原理・特長を解説する専門書。


目次

     第1章　ストレージの背景と限界打破の概念
           1.1　社会的背景と要請
           1.2　技術の進歩（光メモリ、磁気メモリ）と限界
           1.3　近接場光とその原理
           1.4　近接場光によるナノフォトニクス

     第2章　設計と評価の技術
           2.1　数値解析シミュレーション法
           2.2　立体構造の計測評価法

     第3章　近接場光ヘッドと関連デバイスの技術
           3.1　近接場光ヘッドとその作成
           3.2　関連デバイス

     第4章　媒体と記録再生の技術
           4.1　媒体とその限界を打破する新技術
           4.2　近接場光磁気ハイブリッド記録材料
           4.3　微細構造セル加工技術
           4.4　近接場光・磁気ハイブリッド記録

     第5章　電子ビーム原盤記録再生装置
           5.1　マスタリングの歴史
           5.2　電子ビーム原盤記録再生装置の概要
           5.3　1Tbit/inch2級の電子ビーム原盤記録装置の主要技術
           5.4　電子ビーム原盤記録装置の現状
           5.5　電子ビームマスタリング装置の将来・課題
           5.6　実用化

     第6章　今後の展望