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캐논 ‘NAND 부족은 사업 기회’ -- 신형 KrF 노광장비로 ASML 추격
  • 카테고리화학/ 신소재/ 환경·에너지
  • 기사일자 2026.1.16
  • 신문사 Nikkei X-TECH
  • 게재면 online
  • 작성자hjtic
  • 날짜2026-03-13 09:07:10
  • 조회수354

캐논 ‘NAND 부족은 사업 기회’
신형 KrF 노광장비로 ASML 추격

캐논은 2026년 초를 목표로 KrF(크립톤 플루오라이드) 노광장비의 14년 만의 신모델을 출시한다. 로직 반도체와 메모리를 메가팹(대규모 생산공장)에 납품하는 것을 목표로, 처리 속도를 30% 높였다. 경쟁사인 네덜란드 ASML홀딩스 등에 맞서 KrF 노광장비의 점유율을 현재 약 30%에서 50% 이상으로 끌어올리는 것을 목표로 한다.

캐논은 2012년에 출시한 KrF 노광장비의 웨이퍼 처리 속도를 시간당 310장까지 높여 왔으며, 기술 혁신을 통해 시간당 400장으로 끌어올렸다. 해당 장비는 반도체 전시회 ‘SEMICON Japan 2025’(2025년 12월 17~19일, 도쿄 빅사이트)에서 패널 형태로 전시되었다.

월 10만 장 이상을 생산하는 초대형 반도체 공장에서 채택될 것으로 기대한다. 특히 기대되는 것은 NAND형 플래시 메모리다. 캐논 집행임원인 미우라(三浦) 씨는 “생성형 AI가 로직 반도체와 HBM(고대역폭 메모리) 수요를 견인해 왔지만, 최근에는 NAND도 공급 부족감이 커지고 있다. NAND 제조업체는 생산성을 특히 중시한다”라고 설명했다.

KrF 노광장비는 파장 248nm(나노미터) 레이저 광원을 탑재해, 로직 반도체와 메모리의 비교적 치수가 큰 층을 형성하는 데 사용한다. 반도체 노광장비 최대 기업인 ASML이 대수 기준 50% 이상의 점유율을 차지하고 있지만, 캐논은 생산성을 높인 신모델로 점유율 확대를 노린다.

캐논은 2026년 초를 목표로 ArF(아르곤 플루오라이드) 드라이 노광장비도 출시한다. 파장 193nm 레이저 광원을 사용하는 장비로, KrF 노광장치보다도 미세 가공이 가능하다. 준첨단 세대 파워 반도체용 등을 중시으로 제공한다. “그다지 큰 시장은 아니지만, ArF 장비를 다뤄 달라는 고객의 요청이 있었다”’(미우라 부장).

캐논은 과거 ArF 드라이 노광장비 사업에 진출했다가 철수한 이력이 있다. 이번에는 경쟁력을 강화한 제품으로 다시 진출한다. 광 제어의 유연성 등 기능 측면에서 차별화를 꾀한다.

-- ‘PLP’는 라피더스와 TSMC에 대응 --
AI 수요 확대에 힘입어 후공정용 i선 노광장비(파장 365nm)에서는 패널 레벨 패키지(PLP) 대응을 강화한다. 대형 기판을 지지재로 활용해 대면적 인터포저(중간 기판)를 제작해, 생산 효율을 높일 수 있도록 한다.

515mm×510mm 패널에 대응하는 장비는 이미 출시되었다. 레조낙(Resonac)이 주도하고 약 30개 기업이 참여하는 컨소시엄 ‘JOINT 3’에 합류해 기술 개발을 진행한다. 라피더스는 600mm 정사각형, 대만 TSMC는 310mm 정사각형 패널을 사용할 방침이며, 이에 대한 대응도 추진한다. 미우라 부장은 “패널 규격은 통일되는 것이 바람직하지만, 규격 차이 자체가 각 사의 차별화 요소가 되는 측면도 있다”라고 말했다. 라피더스와 협의를 진행 중이며, 홋카이도 지토세시에 있는 라피더스 지토세 공장에서 양산을 지원할 계획이다.

2025년에는 ASML도 후공정용 i선 노광장비 시장에 진입했다. 미우라 부장은 캐논 장비에 대해 “후공정 특유의 과제에 대응하기 위한 다양한 설계를 반영했다”라고 강조하면서도, ASML의 움직임을 면밀히 주시하겠다고 밝혔다. 니콘도 2025년 7월부터 직묘식(직접 노광 방식) 후공정용 노광장비 수주를 시작하는 등 후공정 장비 시장은 격전지로 떠오르고 있다.

도장을 찍듯 반도체 회로를 제작하는 나노임프린트 리소그래피 장비에 대해서는 “양산 적용을 위한 기술 평가가 착실히 진행되고 있다”(미우라 실장). 최첨단 로직 반도체와 메모리용 분야에서 EUV(극자외선) 노광의 일부를 대체할 수 있을 것이라는 기대도 커지고 있다. SEMICON Japan 2025에서는 나노임프린트로 패턴을 만든 반도체 웨이퍼를 전시했으며, 많은 참관객의 관심을 끌었다.

캐논은 2025년 7월, 우쓰노미야 사업장에서 반도체 노광장비 신공장 준공식을 열었다. 2026년 중반부터 본격적으로 가동한다. 신공장 가동을 통해 2027년에는 반도체 노광장비의 생산 능력을 2021년 대비 2배로 확대할 계획이다. 2025년 12월 결산 기준 반도체 노광장비 판매 대수는 AI 관련 수요 확대에 힘입어 전년 대비 9% 증가한 255대를 전망하고 있다.

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