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닛케이 일렉트로닉스_2603호 (p10-11)

캐논 ‘NAND 부족에서 사업 기회 포착’, 신형 KrF 노광 장비로 ASML 추월 노린다
14년 만의 신기종, 점유율 50% 이상 목표

캐논은 2026년 초를 목표로 KrF(불화크립톤) 노광 장비 분야에서 14년 만에 신기종을 출시한다. 로직 반도체나 메모리의 메가팹(대규모 공장) 납품을 겨냥해 처리 속도를 30% 높였다. 경쟁사인 네덜란드 ASML 홀딩스 등에 대항해, 현재 약 30% 수준인 KrF 노광 장비 시장 점유율을 50% 이상으로 끌어올린다는 전략이다.

2012년에 출시한 KrF 노광 장비의 웨이퍼 처리 속도를 시간당 310장까지 향상해 왔으나, 이번에 기술을 혁신해 시간당 400장까지 끌어올렸다. 이 신기종은 반도체 전시회 'SEMICON Japan 2025'(2025년 12월 17~19일, 도쿄 빅사이트)에서 패널 형태로 전시했다.

캐논은 월 생산량 10만 장이 넘는 초대형 반도체 공장에 도입될 것을 기대하고 있다. 특히 기대를 거는 분야는 NAND형 플래시 메모리다. 캐논의 반도체기기 사업부장인 미우라(三浦) 씨는 “생성형 AI가 로직 반도체와 HBM(고대역폭메모리) 수요를 견인해 왔지만, 최근 NAND 역시 공급 부족감이 강해지고 있다. NAND 제조사들은 생산성을 무엇보다 중시한다"라고 설명했다.

KrF 노광 장비는 파장 248nm(나노미터)의 레이저 광원을 탑재하여, 로직 반도체나 메모리의 비교적 회로 선폭이 큰 층(Layer)을 형성할 때 쓰인다. 현재 반도체 노광 장비 최대 기업인 ASML이 출하 대수 기준으로 50%가 넘는 점유율을 차지하고 있지만, 캐논은 생산성을 대폭 높인 신기종으로 시장 점유율을 빼앗아 오겠다는 구상이다.

캐논은 2026년 초를 기점으로 ArF(불화아르곤) 드라이 노광 장비도 출시할 예정이다. 파장 193nm의 레이저 광원을 사용하는 장비로, KrF 노광 장비보다 미세한 가공이 가능하다. 준첨단 세대의 전력 반도체용 등으로 제공한다. 미우라 사업부장은 "아주 큰 시장은 아니지만, ArF 장비를 만들어 달라는 고객사들의 요청이 있었다"라고 밝혔다.

캐논은 과거 ArF 드라이 노광 장비 사업에 진출했다가 철수했던 이력이 있어, 이번에는 경쟁력을 한층 높인 제품으로 재진입한다. 광제어의 유연성 등 기능적 측면에서 차별화를 꾀할 방침이다.

-- ‘PLP’에 대한 대응 강화 --
AI 열풍의 수혜를 입고 있는 후공정용 i선 노광 장비(파장 365nm) 분야에서는 패널 레벨 패키지(PLP)에 대한 대응을 강화한다. 대형 기판을 지지체로 사용해 대면적 인터포저(중간 기판)를 제조함으로써 생산 효율을 높일 수 있도록 한다.

이미 515mm×510mm 크기의 패널에 대응하는 장비를 출시했다. 현재는 레조낙(Resonac)이 주도하고 약 30개 기업이 참여하는 컨소시엄인 'JOINT 3’에 합류해 기술 개발을 진행 중이다. 라피더스는 600mm 사각 기판을, 대만의 TSMC는 310mm 사각 기판을 사용할 방침이어서 이에 대한 대응도 추진한다. "패널 규격이 통일되는 것이 이상적이지만, 크기의 차이 자체가 각 사의 차별화 요소가 되는 측면도 있다"(캐논의 미우라 사업부장). 현재 라피더스와 협의를 진행 중이며, 라피더스의 홋카이도 지토세공장의 양산 체제를 지원할 것이라고 했다.

한편, 2025년에는 ASML이 후공정용 i선 노광 장비 시장에 진입했다. 미우라 사업부장은 캐논의 장비가 "후공정 특유의 과제들에 대처하는 노하우가 녹아 있다"라면서도, ASML의 움직임을 예의주시하겠다고 전했다. 니콘이 직묘식(Direct Writing) 후공정 노광 장비 수주를 2025년 7월에 시작하는 등, 후공정 시장은 그야말로 격전지가 되고 있다.

도장을 찍듯 반도체 회로를 형성하는 '나노임프린트 리소그래피' 장비에 대해서는 "양산 적용을 위한 기술 평가가 착실히 진행 중이다"라고 전했다. 최첨단 로직 반도체 및 메모리 공정에서 EUV(극자외선) 노광 공정의 일부를 대체할 수 있을 것이라는 기대가 커지고 있다. 세미콘 재팬 2025에서는 나노임프린트로 패턴을 형성한 반도체 웨이퍼를 전시했으며, 연일 관람객들의 발길이 이어졌다.

캐논은 2025년 7월, 반도체 노광 장비 신규 생산동의 개소식을 우쓰노미야시 거점에서 열었다. 2026년 중반부터 본격 가동에 들어간다. 새 공장이 가동되면 2027년에는 캐논의 반도체 노광 장비의 생산 능력을 2021년 대비 2배로 높인다. 캐논의 2025년 12월기 반도체 노광 장비 판매 대수는 AI용에 대한 수요 폭발에 힘입어 전기 대비 9% 증가한 255대를 기록할 것으로 예상된다.

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닛케이 일렉트로닉스_2603호 목차

Hot News
・NVIDIA와 TSMC, 세미콘 재팬에서 탑 티어 기업들 경쟁
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・캐논 ‘NAND 부족에서 사업 기회 포착’, 신형 KrF 노광 장비로 ASML 추월 노린다
14년 만의 신기종, 점유율 50% 이상 목표

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우선은 전기 이륜차에 탑재, 2026년 내에 1GWh의 양산 규모로

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・광전융합 기술 쟁탈전 심화, 마벨(Marvell) 5,000억 엔에 스타트업 인수
NVIDIA 그 이상을 향해, 칩렛 간 통신도 광신호화

Breakthrough 특집1
・철저 이해, 광전융합

・제1부: 총론
변모하는 데이터 센터, 전송 속도 증대로 GPU 간 통신도 광신호화

・제2부: 요소 기술
광전융합으로 AI 서버 변모, 새로운 실장 형태 'CPO'에 7가지 혁신 기술

・제3부: 업계 지도
업계는 '버블 조짐', 일본은 광원 분야에 강점

・제4부: 광변조기
CPO 채택을 두고 경쟁하는 광변조기 4대 재료, 화합물계에 사활 건 일본 기업들

・제5부: NTT의 동향
빅테크 기업들과 '대형 비즈니스 협상', 정부는 라피더스와의 연계 기대

Emerging Tech＆Biz
・인터뷰
‘너무 느린 개발’에 메스, 개혁 4년 만에 과제 60% 감축
사카키바라 아키라 씨(파나소닉 커넥트 집행임원 시니어 바이스 프레지던트 CTO)

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휴머노이드 로봇이 세계를 석권, 이목은 '피지컬 AI'로

・재료
은이나 구리 가격 기록적인 폭등, 대체 배선 재료 급부상

・파워 일렉트로닉스 어워드 2025
사회 구현을 내다본 연구의 결실, 도전할 수 있는 환경이 진화를 낳는다

Products' Trends
도시바, CMOS 컴퍼레이터 IC 출시, 산업용 로봇 등의 과전류 검출용 외

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